香港理工學(xué)院的研究人員開發(fā)除一周化學(xué)涂布，這預(yù)示著自清洗服裝的出世。 據(jù)報(bào)道，這種涂布能夠暴露在陽光下能夠消除灰塵，這種涂布包含了眾多二氧化鈦微粒。這些微粒的直徑小于20納米，大約是人類頭發(fā)直接的1/2500，幫助毀掉污處的碳分子。 這項(xiàng)研究是香港理工學(xué)院的研究員Walid Daoud和約翰.辛承擔(dān)的。